déposition chimique en phase vapeur

cheminis garinis nusodinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. chemical vapor deposition vok. chemische Abscheidung aus der Gasphase, f rus. химическое осаждение из паровой фазы, n pranc. déposition chimique en phase vapeur, f; dépôt chimique en phase vapeur, m

Radioelektronikos terminų žodynas. – Vilnius : BĮ UAB „Litimo“. . 2000.

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  • déposition chimique en phase vapeur sous vide — vakuuminis cheminis garinis nusodinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. vacuum chemical vapor deposition vok. chemische Vakuumabscheidung aus der Gasphase, f rus. химическое осаждение из паровой фазы в вакууме, n pranc.… …   Radioelektronikos terminų žodynas

  • oxyde de déposition chimique en phase vapeur — cheminiu gariniu būdu nusodintas oksidas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. chemical vapor deposition oxide vok. chemisches Gasphasenabscheidungsoxid, n rus. оксид, сформированный методом химического осаждения из паровой фазы,… …   Radioelektronikos terminų žodynas

  • couche de silicium de déposition chimique en phase vapeur — cheminiu gariniu būdu nusodintas silicio sluoksnis statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. chemical vapor deposition silicon vok. chemische Gasphasenabscheidungssiliziumschicht, f rus. слой кремния, полученный методом химического… …   Radioelektronikos terminų žodynas

  • polysilicium de déposition chimique en phase vapeur — polikristalinis cheminiu gariniu būdu nusodintas silicis statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. chemical vapor deposited polysilicon vok. chemisches Gasphasenabscheidungspolysilizium, n rus. поликристаллический кремний,… …   Radioelektronikos terminų žodynas

  • dépôt chimique en phase vapeur — cheminis garinis nusodinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. chemical vapor deposition vok. chemische Abscheidung aus der Gasphase, f rus. химическое осаждение из паровой фазы, n pranc. déposition chimique en phase vapeur,… …   Radioelektronikos terminų žodynas

  • Depot chimique en phase vapeur — Dépôt chimique en phase vapeur Le dépôt chimique en phase vapeur (ou CVD pour l anglais chemical vapor deposition) est une méthode de dépôt de films minces, à partir de précurseurs gazeux. Sommaire 1 Principe 2 Variantes du dépôt chimique en… …   Wikipédia en Français

  • Dépôt chimique en phase vapeur — Le dépôt chimique en phase vapeur (ou CVD pour l anglais chemical vapor deposition) est une méthode de dépôt sous vide de films minces, à partir de précurseurs gazeux. Sommaire 1 Principe 2 Variantes du dépôt chimique en phase vapeur 3 …   Wikipédia en Français

  • Dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma — Equipement de PECVD. Le dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (ou PECVD, pour Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition en anglais) est un procédé utilisé pour déposer des couches minces sur un substrat à partir d un état gazeux… …   Wikipédia en Français

  • dépôt chimique en phase vapeur à pression atmosphérique — cheminis garinis nusodinimas atmosferos slėgyje statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. atmospheric pressure chemical vapor deposition vok. chemische Abscheidung aus der Gasphase bei atmosphärischem Druck, f rus. химическое… …   Radioelektronikos terminų žodynas

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